镭雕是表面处理一种工艺，和网印，移印相似，都是在产品上印字或图案之类的，工艺不同，价格有异，在此说说镭雕的原理和注意事项
镭雕也叫激光雕刻，是一种用光学原理进行表面处理的工艺，手机和电子词典的按键上用的多，简单一点的讲是这样的：
比如说要做一个键盘，他上面有字，字有蓝色，绿色，红色和灰色，键体是白色，激光雕刻时，先喷油，蓝字，绿字，红字，灰字各喷相应的颜色，注意不要喷到别的键上，这样看上去就有蓝键，绿键等键了，再整体喷一层白色，这样就是一整块白键盘了，各蓝绿都被包在下面了。此时就可以进行激光雕刻了，利用激光技术和ID出的按键图做成的菲林，雕掉上面白色油，比如加工字母"A",雕掉笔划上的白色，则下的或蓝或绿就露出来了，这样就形了各种颜色的字母按键了。
同时如果要透光的，就用PC或PMMA,喷一层油，雕掉字体部分，则下面有光的话就透出来了，只不过这时要考虑各种油的粘附性能，不要油喷上去一刮就掉了。
因为各颜色键要喷不同的油，所以做结构时要考虑到这一点，各键要分开点，以免喷到不必要的地方，也有损耗大的地方不如做两个或多个，这样可以有多个可以配套。
各颜色的色差要大一点，最大的比如说黑白，这样机器容易分辨，也雕得干净，以免雕而不净，影响外观品质，还有各不同色的字体不要靠的太近。
摘要：
什么是EMI
电磁兼容性（Electromagnetic Compatibility）缩写EMC，就是指某电子设备既不干扰其它设备，同时也不受其它设备的影响。电磁兼容性和我们所熟悉的安全性一样，是产品质量最重要的指标之一。安全性涉及人身和财产，而电磁兼容性则涉及人身和环境保护。
电磁波会与电子元件作用，产生干扰现象，称为EMI（Elec...
摘要：
溅射原理
电子在电场的作用下加速飞向基片的过程中与氩原子发生碰撞，电离出大量的氩离子和电子。电子飞向基片，氩离子在电场的作用下加速轰击靶材，溅射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子（或分子）沉积在基片上成膜。二次电子在加速飞向基片的过程中受磁场洛仑磁力的影响，被束缚在靠近靶面的等离子体区域内，该区域内等离子体密度很高，二次电子在磁场的作用下围绕靶面做圆周运动，该电子的运动路径很长，在运动过程...
摘要：
各位同行,前面我已经发表过关于手机配件真空镀金属不导电膜的话题.感谢有相当多的朋友对我那帖的关注并私下与我进行交流,现得知有较多朋友还存在膜层不均匀等问题,应相关人员的要求,现列举出相应的解决方案.具体如下:
根据市场情况,做真空镀金属不导电膜,以蒸发镀膜和磁控溅射膜为主.
1,磁控溅射制作法:
...
摘要：
PVD是英文Physical Vapor Deposition（物理气相沉积）的缩写，是指在真空条件下，采用低电压、大电流的电弧放电技术，利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质与气体都发生电离，利用电场的加速作用，使被蒸发物质及其反应产物沉积在工件上。
NCVM=Non-Conductive Vacuum Metallization:直译为不导电真空电镀(金属表面化),制程:不导电镀膜. ...
摘要：
Q1: 请问什么是PVD？
A1: PVD是英文Physical Vapor Deposition的缩写，中文意思是“物理气相沉积”，是指在真空条件下，用物理的方法使材料沉积在被镀工件上的薄膜制备技术。
Q2: 请问什么是PVD镀膜？ 什么是PVD镀膜机？
A2: PVD(物理气相沉积)技术主要分为三类，真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜和真空离子镀膜。相对于PV...
摘要：
第一节 表面处理基础知识
一、表面处理概述
表面处理技术就是通过各种工艺手段，赋予表面不同于基体材料的组织结构、化学组成，因而具有不同于基体材料的特殊性能。
诸如高硬度、高疲劳强度、高耐磨耐蚀性、抗高温氧化性等。
二、表面处理的作用
1、腐蚀保护性
2、抗磨性
3、电性能
4、耐热性
5、光学特性
6、电磁特性
7、密封性
8、装饰性 ...
摘要：
1．真空系统的抽气方程
真空系统的任务就是抽除被抽容器中的各种气体。我们可以把被抽容器中所产生的各种气体的流量称为真空系统的气体负荷。那么真空系统的气体负荷究竟来自哪些方面呢?或者说真空室内究竟有哪些气源呢?总起来说，可以归纳为下述几个方面：
(1)被抽容器内原有的空间大气，若容器的容积为Vm3，抽气初始压强为PoPa，则容器内原有的大气量为VP...
摘要：
1、真空的定义
真空系统指低于该地区大气压的稀簿气体状态
2、真空度
处于真空状态下的气体稀簿程度，通常用“真空度高”和“真空度低”来表示。真空度高表示真空度“好”的意思，真空度低表示真空度“差”的意思。
3、真空度单位
通常用托（Torr）为单位，近年国际上取用帕（Pa）作为...
订阅到
鲜果
抓虾
谷歌
